ESPECTROSCOPIA DE
FOTOELÉTRONS - XPS

Os métodos espectroscópicos sensíveis à superfície, como a espectroscopia de elétrons Auger (AES), a espectroscopia de espalhamento de íons de baixa energia (LEISS) e, especialmente, a espectroscopia de fotoelétrons excitada por raios-X (XPS) e UV (UPS), tornaram-se ferramentas poderosas para caracterizar a composição química da superfície. Assim, essas técnicas permitem também analisar o estado químico dos elétrons de superfície e as propriedades eletrônicas dos materiais.

Além disso, métodos modernos relacionados podem fornecer informações detalhadas sobre a estrutura química da superfície. Por exemplo, a microscopia de varredura Auger (SAM), o mapeamento químico XPS e a difração de fotoelétrons de raios-X (XPD) oferecem insights valiosos. Por outro lado, técnicas que investigam a estrutura eletrônica e magnética completa incluem a espectroscopia de fotoelétrons resolvida por ângulo e a espectroscopia de spin resolvida (ARPES ou Spin-PES).

Há cerca de 10 anos, alguns desses métodos espectroscópicos começaram a ser realizados em condições ambientais ou com pressão próxima à atmosfera (NAP), em vez de ultra-alto vácuo (UHV). 

Essa inovação permite a caracterização operacional de reações químicas de superfície, além de possibilitar a análise de líquidos ou gases e suas interfaces com sólidos.