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ESPECTROSCOPIA DE
FOTOELÉTRONS - XPS

Sistemas de análise de superfície por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raio-x ou raio ultravioleta

Métodos de espectroscópicos sensíveis à superfície, como espectroscopia de elétrons Auger (AES), espectroscopia de espalhamento de íons de baixa energia (LEISS) e especialmente raios-X ou espectroscopia de fotoelétrons excitada por UV (XPS e UPS) tornaram-se ferramentas poderosas para caracterizar a composição química da superfície, o estado químico dos elétrons da superfície e as propriedades eletrônicas das superfícies dos materiais.

Métodos modernos relacionados podem fornecer informações sobre a estrutura química da superfície (microscopia de varredura Auger (SAM), mapeamento químico XPS ou difração de fotoelétrons de raios-X (XPD)), ou na estrutura eletrônica e magnética completa (Espectroscopia de fotoelétrons resolvida por ângulo ou spin resolvida (ARPES ou Spin-PES).

Há cerca de 10 anos, também é possível realizar alguns desses métodos espectroscópicos também em condições ambientais ou de pressão próxima à ambiente (NAP), ao invés de ultra-alto vácuo (UHV) para permitir a caracterização operacional de reações químicas de superfície ou a caracterização de líquidos ou gases e suas interfaces com os sólidos.

 

Sistemas em destaque:

Exemplos de áreas de aplicação

  • Caracterização de materiais
  • Engenharia de materiais
  • Nanotecnologia
  • Semicondutores
  • Catálise
  • Materiais 2D

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