Sistemas de deposição de filmes finos por processos químicos ou físicos, equipamentos para processos de nanotecnologia
Os sistemas de deposição de filmes finos, que utilizam processos químicos ou físicos, desempenham um papel fundamental na nanotecnologia.
Esses equipamentos não apenas possibilitam a criação de materiais com características específicas, mas também são essenciais para diversas aplicações, como eletrônicos, fotovoltaicos e revestimentos especiais.
Além disso, a eficiência dessas tecnologias garante a qualidade e a uniformidade dos filmes, o que, por sua vez, impulsiona inovações em setores de alta performance.
Com o avanço constante das técnicas de deposição, a nanotecnologia se expande ainda mais, permitindo, assim, o desenvolvimento de produtos cada vez mais sofisticados e com melhores propriedades. Portanto, a relevância dessas ferramentas é inegável no contexto atual da ciência e da tecnologia.
Sistemas de deposição e corrosão por plasma por CVD, PECVD, Plasma Etching, ICP Etching, ALD, entre outros
Sistemas de deposição de filmes finos por processos físicos como evaporação térmica, sputtering, eletron-beam, pulsed laser deposition, entre outros
Dispositivos para controle de fluxo de massa de gases, líquidos, vaporizadores, controladores automáticos de pressão
Fontes de alta potência para geração de plasma em processos industriais ou pesquisa e desenvolvimento
Materiais para processos de deposição por vapor físico, disponível em alvos ou outros formados
Fontes de íons e acessórios para aplicações industriais e em pesquisa e desenvolvimento