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MICROSCOPIA DE SUPERFÍCIE

Métodos microscópicos de superfície são importantes para caracterizar a estrutura de novos materiais

Por décadas, a microscopia de varredura (SPM), a microscopia eletrônica de baixa energia (LEEM) e a microscopia de emissão de fotoelétrons (PEEM) têm sido técnicas comprovadas para estudar propriedades em escala micro e nano. A caracterização de novos materiais, nanomateriais e nanoestruturas exigem diferentes tipos de informações para determinar suas propriedades, e as informações estruturais são muito importantes para entender o crescimento, a estrutura eletrônica ou a reatividade. Essas informações podem ser obtidas por métodos microscópicos. Além disso, essas técnicas fornecem informações espectroscópicas e, quando combinadas, os dados espectroscópicos resultantes fornecem uma visão integrada e abrangente das propriedades dos materiais.

Sistemas em destaque:

Sistema SPM

O sistema SPM em Ultra Alto Vácuo é a ferramenta mais confiável para estudar a estrutura de superfícies condutoras e isolantes no espaço real com resolução lateral, que permite construir imagens de estruturas do tamanho de átomos individuais. Os sistemas SPM altamente estáveis como o Aarhus SPM 150 tornaram possível imagens STM e AFM atomicamente resolvidas em temperaturas variáveis e até mesmo pressões variáveis, de uso cotidiano. Os sistemas SPM podem ser utilizados isoladamente, mas também como módulo (devido à sua estabilidade) conectado a um sistema multi-método. Ao usar um sistema Nanonis Mimea Control, o desempenho do SPM será incomparável.

Sistema LEEM/PEEM

O instrumento FE-LEEM P90 SPECS LEEM é um microscópio eletrônico de baixa energia de próxima geração com resolução de 5 nm, insuperável para experimentos de microscopia LEEM dinâmica. Com este instrumento, baseado no projeto do Dr. Rudolf Tromp, processos de superfície em escala nanométrica podem ser observados em tempo real. O instrumento está sempre equipado com filtro de energia para espectromicroscopia e está disponível em versão padrão, versão com correção de aberrações para resolução LEEM lateral abaixo de 2 nm e versão Near Ambient Pressure para estudos em pressões de até 1 mbar. 

Exemplos de áreas de aplicação

  • Caracterização de materiais
  • Engenharia de materiais
  • Nanotecnologia
  • Semicondutores
  • Catálise
  • Materiais 2D

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