OXFORD INSTRUMENTS PLASMA TECHNOLOGY
A Oxford Plasma, na vanguarda da fabricação de dispositivos avançados, as tecnologias para corrosão e deposição em escala nanométrica, nanocamadas e crescimento controlado de nanoestruturas por meio de Plasma Etching & Deposition, Atomic Layer Etching & Deposition e Ion Beam Etching & Deposition, desempenham um papel crucial.
O plasma é um estado da matéria com propriedades distintas dos conhecidos “sólido / líquido / gasoso”, formando-se quando uma substância no estado gasoso é energizada até atingir um valor tão elevado de temperatura que faz com que a agitação térmica molecular supere a energia de ligação que mantém os elétrons em órbita do núcleo do átomo. Os elétrons acabam “soltando-se” e a substância torna-se uma massa disforme, eletricamente neutra e formada por elétrons e núcleos dissociados. O plasma pode conduzir corrente elétrica melhor do que o cobre, fluir como um líquido viscoso e interagir com campos elétricos e magnéticos, diferentemente dos gases.
E este plasma, dependendo do gás utilizado, pode ser empregado para fazer corrosão ou deposição de camadas em escala nanométrica, nanocamadas e crescimento controlado de nanoestruturas.
Por exemplo, se um gás contendo oxigênio é utilizado para criar o plasma, irá reagir com o silício na pastilha, criando dióxido de silício, um material eletricamente condutivo. À medida que o jato de plasma passa sobre a superfície da pastilha de uma maneira controlada com precisão, uma camada de dióxido de silício semelhante a uma película muito fina acumula-se na sua superfície. Quando o processo de corrosão está completo, a pastilha de silício terá uma série de faixas precisas de dióxido de silício em toda ela. Estas faixas servirão como as vias condutoras entre os componentes de um circuito integrado.
As tecnologias de uso do plasma para Etching & Deposition são essenciais para a fabricação de microeletrônicos avançados pois oferece a confiabilidade necessária para alcançar as características desejadas nos dispositivos, proporcionado a retirada ou deposição de uma ampla variedade de filmes, com controle preciso de profundidade e espessura com baixo dano e processamento em uma ampla faixa de temperatura.
E a Oxford Instruments Plasma Technology é especialista em sistemas para se trabalhar com estas tecnologias de processamento de plasma, sejam para produção de alto rendimento até sistemas compactos e independentes para P&D.
Seus sistemas podem ser utilizados em uma ampla gama de aplicações como Materiais 2d, realidade aumentada, dispositivos biomédicos, Failure Analysis Applications (FA), HBLED (High Brightness LED), Sistemas Micro/Nano Eletromecânicos (M/NEMS) e Sensores, Sensores Infravermelhos, Lasers, Micro-LEDs, Dispositivos de Energia, Tecnologia Quântica, Dispositivos RF e VCSELs (Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers).
Conheça todas as tecnologias que a Oxford Instruments Plasma Technology oferece: soluções para corrosão e deposição em escala nanométrica, nanocamadas e crescimento controlado de nanoestruturas, com produtos de tecnologias de plasma, feixe de íons, ALD e ALE para atender inúmeros tipos de aplicações e produções de alto rendimento ou sistemas autônomos compactos para P&D. A AVACO – Tecnologia em alto vácuo é sua representante oficial no Brasil. Conheça todas nossas demais linhas de produtos, soluções e Centro de Serviços. Consulte um de nossos especialistas. Podemos ajudá-lo a encontrar a solução certa para sua necessidade.